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  • 真空熱處理系列

  • 真空釬焊/擴(kuò)散焊系列

  • 真空燒結(jié)系列

  • 真空高溫高壓系列

  • HIP熱等靜壓系列

  • 不銹鋼管專(zhuān)用熱處理系列

  • 鈦合金高溫合金專(zhuān)用配套熱處理系列

  • 真空氫化系列

  • 碳材料特種生產(chǎn)線(xiàn)設(shè)備

  • 連續(xù)生產(chǎn)線(xiàn)

  • 半導(dǎo)體晶體生長(zhǎng)系列

    • VCDF系列真空化學(xué)氣相沉積爐

    用途：

           在高溫并在真空狀態(tài)下，通入碳源氣體，在高溫下產(chǎn)生裂解，沉積到工件上，主要用于C/C的化學(xué)氣相沉積，使復(fù)合材料得到致密化處理。   

    可選項(xiàng)：

           1、底裝料式  

           2、上裝料式


           設(shè)備溫區(qū)大小可根據(jù)客戶(hù)實(shí)際需求定制。